高純鎳及鎳合金靶材是制造半導體芯片硅化物過程的關鍵材料，在半導體二極管、金屬氧化物場效應管以及集成電路等領域具有廣泛的應用，應用范圍涉及通信、汽車、計算機及便攜式電器、工業、航天、家電等各種領域。
貴金屬濺射靶材（Au、Pt） Precious metals sputtering targets(Au、Pt)
光伏太陽能用濺射靶材
Sputtering
targets for Photovoltaic devices
·高純鉬濺射靶材 High
purity molybdenum sputtering targets
·銅銦鎵硒濺射靶材 CIGS
sputtering targets
平面顯示及玻璃行業用濺射靶材
Sputtering targets for Flat Panel Displays and Glass industry
高純銀濺射靶 High
purity silver sputtering targets
鉬合金濺射靶材 Molybdenum
alloy sputtering targets
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